全球最大半導體設備公司:阿斯麥公司ASML Holding(ASML)

阿斯麥公司(臺譯:艾司摩爾控股公司)ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)創立於1984年,前稱ASM Lithography Holding N.V.,於2001年改為現用名,總部位於荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven),全職僱員23,860人,是一家半導體設備設計、制造及銷售公司。ASML Holding是全球最大的半導體設備公司,也是全球唯一的極紫外光刻機生產商,其他領先公司還包括光刻機廠商尼康、佳能等。

阿斯麥公司(艾司摩爾控股)ASML Holding(ASML)美股百科:

阿斯麥公司(ASML Holding N.V.)是總部位於荷蘭費爾德霍芬的半導體設備制造商,公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。阿斯麥公司在世界16個國家和地區有60個子公司和生產據點。阿斯麥公司的主要產品是用來生產大規糢積體電路(集成電路)的核心設備——光刻機(曝光機)。在世界同類產品中有90%的市占率,在10納米節點以下有100%的市占率——是全球唯一能夠生產EUV光刻機(極紫外光刻機)的公司。

ASML Holding N.V.為存儲器和邏輯芯片制造商開發,生產,銷售,銷售和服務先進的半導體設備系統,其中包括與光刻相關的系統。

阿斯麥公司提供極紫外光刻系統;包括浸沒式和幹式光刻解決方案的深紫外光刻系統,用於制造各種半導體節點和技術。

阿斯麥公司還提供計量和檢查系統,包括YieldStar光學計量解決方案,用於測量晶圓上圖案的質量;和HMI電子束解決方案來定位和分析單個芯片缺陷。

此外,阿斯麥公司還提供計算光刻和軟體解決方案,以創建可增強光刻系統設定的應用程序; 以及翻新二手光刻設備並提供相關服務的成熟產品和服務。

阿斯麥公司在日本,南韓,新加坡,臺灣,中國,荷蘭,歐洲,中東,非洲,美國和亞洲其他地區運營,生產與研發單位則分別位於美國康涅狄格州、加州、臺灣以及荷蘭。

阿斯麥公司(艾司摩爾控股)ASML Holding(ASML)历史百科:

1984年,艾司摩爾從荷蘭著名電子制造商飛利浦獨立,此後致力於大規糢集成電路制造設備的研究和制造。2007年已經能夠提供制造37nm線寬集成電路的光刻機。

制造大規糢集成電路時要對半導體晶圓曝光3,40次。如何在不降低品質的情況下,減少曝光次數是曝光機的發展方向。阿斯麥公司使用德國蔡斯公司的光路系統。鏡頭使用螢石和石英制造。光刻機是高附加值產品,一臺新的光刻機動輒3000至5000萬美元。但是研發周期長投入資金也相當巨大。

阿斯麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產效率最高,應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商,都向ASML採購TWINSCAN機型,例如英特爾(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix,KSE:000660),臺積電(TSMC),聯電(NYSE:UMC),格羅方德(GlobalFoundries,格羅方德成立於2009年3月2日,是從美國AMD公司制造部門分拆出。母公司分別為AMD及阿布紮比的Advanced Technology Investment Company(ATIC),其中ATIC占公司股權65.8%)及其它臺灣十二吋半導體廠。

目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXE 3400c ,每小時單位產出為170片(WPH)12英寸晶片,屬於極紫外線曝光(EUV)機型,用來生產關鍵尺度低於7納米的集成電路。在此之前最先進機型是Twinscan XT 1950i,每小時單位產出為260片(WPH)12吋芯片,屬於浸潤式(immersion)光刻機,用來生產關鍵尺度低於38納米的集成電路。

除了目前致力於開發的TWINSCAN平臺外,阿斯麥公司還在積極與IBM等半導體公司合作,開發下一代光刻技術,比如EUV(極紫外線光刻),用於關鍵尺度在22納米甚至更低的集成電路制造。目前阿斯麥公司已經向客戶遞交若幹臺EUV機型,用於研發和實驗。同時,基於傳統TWINSCAN平臺的雙重曝光等新興技術,也在進一步成熟和研發過程當中。07年末三星(Samsung)宣布成功生產的36nm NAND Flash,基於的便是雙重曝光技術(double patten)。

2012年7月10日,英特爾斥資41億美元收購荷蘭芯片設備制造商阿斯麥公司的15%股權,另出資10億美元,支持阿斯麥公司加快開發成本高昂的芯片制造科技。先以21億美元,收購阿斯麥公司10%股權,待股東批準後,再以10億美元收購5%股權,投註金額將以發展450mm機臺以及EUV(極紫外)研發制造10nm技術為兩大主軸。

2012年8月5日,臺積電宣布加入荷蘭阿斯麥公司所提出的「客戶聯合投資專案」(Customer Co-Investment Program),根據協議,臺積電將投資ASML達8.38億歐元,取得阿斯麥公司約5%股權,未來5年並將投入2.76億歐元,支持阿斯麥公司的研發計劃。

2012年8月27日,三星宣布斥資5.03億歐元入股以荷蘭為基地的芯片商阿斯麥公司3%股權,並額外註資2.75億歐元合作研發新技術。

2012年10月17日,ASML Holding NV(ASML)與Cymer (原NASDAQ:CYMI)宣布簽訂合並協議,阿斯麥公司將以19.5億歐元收購Cymer所有在外流通股票,收購Cymer目的在於加速開發Extreme Ultraviolet半導體蝕微影技術,兩家公司董事會一致通過這件交易,Cymer股東將以每股收取20萬美元現金和1.1502股ASML普通股,收購價比Cymer過去30日均價高出61%。

2016年6月16日,ASML宣布將以每股1410元新臺幣現金,斥資約27.5億歐元(1千億元新臺幣)收購臺灣上櫃公司電子束檢測設備商漢民微測科技股份有限公司(漢微科)(臺證所:3658-TW)全部流通在外股份,將以其在臺灣100%持股子公司艾普思隆進行股份轉換,此次收購於2016年第四季完成。

2016年11月4日,ASML以10億歐元現金收購德國蔡司公司(ZEISS)子公司蔡司半導體(Carl Zeiss SMT)24.9%股份。

據Bloomberg數據,2018年全球五大半導體設備制造商分別為艾司摩爾(ASML)、科林研發(Lam Research)、東京威力科創(TEL)、科磊(KLA)、應用材料(AMAT),這五大半導體制造商在2018年以其領先的技術、強大的資金支持占據著全球半導體設備制造業超過70%的份額。

阿斯麥公司(艾司摩爾控股)ASML Holding(ASML)同業市占率:

目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有三家:阿斯麥,尼康(Nikon),佳能(Canon)。根據2007年的統計數據,在中高階光刻機市場,阿斯麥公司占據大約60%的市場份額。而最高階市場(immersion),阿斯麥公司大約目前占據90%的市場份額。不過,競爭對​​手尼康也在奮力追趕,主要優勢在於相對較低的價格。

2008年阿斯麥公司在半導體元件設備制造商中超過東京電子(Tokyo Electron Ltd.,東證1部:8035)成為世界第2位(VLSI Research)。

以銷售額計算,2010年阿斯麥公司高階曝光機市占率已達到將近90%。

2011年阿斯麥公司於半導體設備商已超過美廠應用材料公司(Applied Materials)成為世界第一大半導體設備商。

阿斯麥公司(艾司摩爾控股)ASML Holding(ASML)美股投資:

  • 參考資料:
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百科=美股百科=機構=10大股東=
官網==官網==分析==其他==

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